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臺積電暫不能海外生產(chǎn)2nm芯片:核心技術(shù)不可外移

發(fā)帖時間:2024-12-22 22:23:19

11月11日消息,臺積據(jù)報道,電暫臺積電首席執(zhí)行官魏哲家近期透露,海外核心客戶對2納米(nm)技術(shù)的生產(chǎn)詢問熱度顯著超過3納米,預(yù)示著2nm技術(shù)更受市場青睞,芯片并展望臺積電在未來五年內(nèi)能實現(xiàn)持續(xù)且穩(wěn)健的技術(shù)增長態(tài)勢。

業(yè)界動態(tài)指出,外移受監(jiān)管政策制約,臺積盡管臺積電正積極在美國、電暫歐洲及日本布局建設(shè)采用先進制程技術(shù)的海外核心晶圓廠,其核心的生產(chǎn)最尖端半導(dǎo)體生產(chǎn)技術(shù)卻無法遷移至海外生產(chǎn)基地。這一限制源于當(dāng)?shù)氐男酒杀Wo措施,旨在防止核心技術(shù)外流。技術(shù)

臺積電暫不能海外生產(chǎn)2nm芯片:核心技術(shù)不可外移

臺積電方面明確表示,外移其海外工廠若要涉足2nm芯片的臺積生產(chǎn),仍需數(shù)年時間的籌備與規(guī)劃,確保全球領(lǐng)先的工藝技術(shù)繼續(xù)保留在本土。

具體到臺積電在美國亞利桑那州的布局,首座晶圓廠正穩(wěn)步推進,預(yù)計將于2025年初正式投產(chǎn),率先應(yīng)用4nm制程技術(shù),月產(chǎn)能預(yù)計達到2萬至3萬片,標(biāo)志著臺積電海外先進制程生產(chǎn)的里程碑。

緊接著,第二座晶圓廠將采用3nm制程,規(guī)劃月產(chǎn)能為2.5萬片,預(yù)計兩廠到2028年合計月產(chǎn)能將攀升至6萬片。至于第三座晶圓廠,更是瞄準了2nm或更先進的技術(shù)節(jié)點,計劃在2030年前完成建設(shè)。這一系列布局不僅彰顯了臺積電在全球半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的領(lǐng)導(dǎo)地位,也為其長遠發(fā)展奠定了堅實基礎(chǔ)。

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